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　アメリカ、オランダ、日本の３か国の政府が、先端半導体技術の対中輸出規制の強化で足並みを揃えることに合意しました。

　オランダの半導体製造装置大手のＡＳＭＬは、令和５年１月２９日付の書面で「先進的なプロセス技術を用いた半導体チップの製造技術（の対中輸出規制）に関して、数か国の政府が合意に至ったことを承知している」と明言した。

　ＡＳＭＬは、シリコンウェハー上に微細な電子回路を焼き付ける露光システムの世界最大手です。
　ＡＳＭＬの書面によれば、３カ国の合意の対象には露光システムだけでなく、その他の半導体製造装置の一部も含まれています。
　なお、ＡＳＭＬは合意発効の時期について、「規制の具体的な内容を詰めたうえで法制化する必要があり、一定の時間がかかる」との見方を示していますた。

　アメリカ政府は数年前から、中国企業による先端半導体の製造技術習得を繰り返し阻もうとしてきました。
　平成２９年には、ＡＳＭＬ製のＥＵＶ（極端紫外線）露光システムの対中輸出を禁止するようオランダ政府に要請しました。同システムは回線幅７ｎｍ（ナノメートル）以下の先端プロセス技術に欠かせない装置であり、現時点ではＡＳＭＬが世界唯一のサプライヤーです。

　ＥＵＶ露光システムの入手が事実上不可能になったとき、中国の半導体メーカーは１世代前のＤＵＶ（深紫外線）露光システムを用いたプロセス技術の改良により、１４ｎｍまたはそれ以下の微細加工の実現を目指してきました。
　ただ、それに対応できる装置のサプライヤーは、ＡＳＭＬと日本のニコンの２社だけです。

　アメリカ政府は令和４年１０月に先端半導体技術の対中輸出規制を大幅に強化し、自国の製造装置メーカーに厳しい制約を課しました。
　そのうえでアメリカ政府は、オランダ政府と日本政府が同様の対中輸出規制を法制化するよう、両国への働きかけを強めています。

　世界の半導体業界では製造工程の細分化・専門化が進んでおり、なかでも製造前工程では各段階の製造装置が米欧日の大手メーカーの独占状態になっています。
　露光システムのＡＳＭＬ以外にも、エッチング装置ではアメリカのラムリサーチ、アプライド・マテリアルズ、日本の東京エレクトロンの３社が世界市場の９割を握っています。